Corner 效应

“世界”本是取自佛教的词汇，“世”指的时间，“界”指的是空间。“世界”用现代科学的用语来说就是“时空”。时空是个很有趣的东西，在不同的时空中就不同的生活常识，所以说一花一世界是很深刻的领悟。

随着微加工技术的发展，人们经历了加工精度从“cm→mm→um→nm”的变化。随着尺度减小，原来在cm、mm、um尺度没任务任何问题的操作，在nm出现了重大问题。

在芯片制造过程中，“光刻，掺杂”在边界处就出现偏离“设计目标”的分布，这些统称为Corner效应。对于掺杂来说，工程上既不能治标、也不能治本，所以采用“最差设计”的办法来“应付”，比如“corner仿真”。对于光刻来说，工程上能够治标，采用AI修正、校准光刻版的方式，最终实现设计目标。这方面的话，大家可以看中科院“韦亚一”老师写的《计算光刻与版图优化》这本书，这是给中科院大学研究生用的教材，上上周听了作者的讲座，感觉说的很到位，所以买了一本，还没有开始看。

明白了这个道理之后，Corner效应以及相关的仿真就非常容易了，希望对大家有帮助。

因为疫情打乱大学的教学节奏，所以这年没时间写东西；另外上网课效果有点儿不理想，挫败感很强。如果大家有和专用集成电路设计相关的问题，可以给我留言，我会的就给大家讲讲，不会的我看下我能不能搞明白 ：）